[发明专利]具有ZnTe过渡层的GaN-CdZnTe复合结构组件、应用及其制备方法有效
申请号: | 201811264136.8 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109524491B | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 沈悦;孙佳豪;徐宇豪;顾峰;黄健;王林军 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/18;H01L31/102 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种具有ZnTe过渡层的GaN‑CdZnTe复合结构组件、应用及其制备方法,基于GaN/ZnTe基底生长CdZnTe薄膜并制备GaN/ZnTe/CdZnTe基紫外光探测器,本发明提供的GaN/ZnTe/CdZnTe基紫外光探测器制备方法包括衬底预处理、ZnTe过渡层的溅射过程、CdZnTe薄膜的生长过程、GaN/ZnTe/CdZnTe基紫外光探测器的电极制作4个主要步骤。本发明方法能在GaN/ZnTe衬底上快速生长大面积、高质量CdZnTe薄膜,GaN/ZnTe衬底可以保证GaN/ZnTe/CdZnTe基紫外光探测器在极端环境下的使用,所制得的复合结构对紫外光也有着较强的光响应。 | ||
搜索关键词: | 具有 znte 过渡 gan cdznte 复合 结构 组件 应用 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有ZnTe过渡层的GaN‑CdZnTe复合结构组件,其特征在于:首先在GaN基底上制备ZnTe过渡层,形成GaN‑ZnTe复合衬底,然后在GaN‑ZnTe复合衬底的ZnTe过渡层表面上继续生长制备CdZnTe薄膜,得到具有ZnTe过渡层的CdZnTe薄膜和GaN基片结合的GaN‑ZnTe‑CdZnTe复合结构组件。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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