[发明专利]一种非均匀多层薄膜的镀膜方法有效
| 申请号： | 201811240140.0 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN109207950B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 鲍明东 | 申请（专利权）人： | 宁波工程学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315012 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种非均匀多层薄膜的镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：S1.将试样(3)放入超声波清洗机中，用丙酮清洗试样(3)；S2.将试样(3)放入真空干燥箱中干燥；S3.将试样(3)放入非均匀多层薄膜的镀膜设备的试样台(3)上；S4.镀制第一薄膜层(16),S5.镀制第二薄膜层(17)；S6.镀制第三薄膜层(18),S7.镀膜完成，关闭非均匀多层薄膜的镀膜设备。采用这种结构后，该方法可以镀制非均匀多层薄膜，为科研人员对非均匀多层薄膜的研究工作做铺垫。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 多层 薄膜 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非均匀多层薄膜的镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：S1.将试样(3)放入超声波清洗机中，用丙酮清洗试样(3)；S2.将试样(3)放入真空干燥箱中干燥；S3.将试样(3)放入非均匀多层薄膜的镀膜设备的试样台(3)上；S4.镀制第一薄膜层(16)：开启镀制第一薄膜层(16)的靶材，设定镀制第一薄膜层(16)的时间为T1，驱动机构驱动挡板(5)位于全部遮挡试样(3)表面的状态，所述试样(3)具有第一边缘(22)和第二边缘(23)，第一边缘(22)和第二边缘(23)相对设置，第一边缘(22)和第二边缘(23)之间的距离为S，挡板(5)的第一端(19)与试样(3)的第一边缘(22)在竖直方向上对齐，驱动机构驱动挡板(5)在试样(3)的上方以速度V1沿第一方向移动，其中V1＝S/T1；S5.镀制第二薄膜层(17)：切换至镀制第二薄膜层(17)的靶材，并且驱动机构驱动挡板(5)位于全部遮挡试样(3)表面的状态并且挡板(5)的第二端(20)与试样(3)的第二边缘(23)对齐，设定镀制第一薄膜层(17)的时间为T2，驱动机构驱动挡板(5)在试样(3)的上方以速度V2沿第二方向移动，其中V2＝S/T2；S6.镀制第三薄膜层(18)：切换至镀制第三薄膜层(18)的靶材，并且驱动机构驱动挡板(5)位于全部遮挡试样(3)表面的状态并且挡板(5)的第一端(19)与试样(3)的第一边缘(22)对齐，设定镀制第一薄膜层(18)的时间为T3，驱动机构驱动挡板(5)在试样(3)的上方以速度V2沿第一方向移动，其中V3＝S/T3；S7.镀膜完成，关闭非均匀多层薄膜的镀膜设备。
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