[发明专利]一种镀制非均匀多层薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201811240138.3 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109207949B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 鲍明东 申请(专利权)人: 宁波工程学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315012 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种镀制非均匀多层薄膜的方法,包括如下步骤:S1.丙酮清洗试样(3);S2.将试样(3)干燥;S3.将试样(3)放入试样台(4)上;S4.镀制第一薄膜层(301):工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V1增大;S5.镀制第二薄膜层(302):工控系统驱动遮挡装置(6)由半径为最小状态开始以速度V2增大,S6.镀制第三薄膜层(303):工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V3增大,S7.镀膜完成,关闭非均匀多层薄膜的镀膜设备。采用这种结构后,该方法可以镀制非均匀多层薄膜,为科研人员对非均匀多层薄膜的研究工作做铺垫。
搜索关键词: 一种 镀制非 均匀 多层 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种镀制非均匀多层薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.将试样(3)放入超声波清洗机中,用丙酮清洗试样(3);S2.将试样(3)放入真空干燥箱中干燥;S3.将试样(3)放入用于镀制非均匀多层薄膜的系统的试样台(3)上;S4.镀制第一薄膜层(301):开启镀制第一薄膜层(301)的靶材,设定镀制第一薄膜层(301)的时间为T1,第一驱动机构驱动光圈(5)至试样(3)表面中心上方并固定,所述试样(3)的直径为D,工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V1增大,其中V1=D/T1,之后第一驱动机构驱动光圈(5)远离试样(3)表面,工控系统驱动光圈(5)使光圈(5)的孔径复位至零;S5.镀制第二薄膜层(302):切换至镀制第二薄膜层(302)的靶材,并且第二驱动机构驱动遮挡装置(6)至试样(3)表面中心上方,并且使空心管13与试样(3)表面中心对齐并固定,设定镀制第二薄膜层(302)的时间为T2,遮挡装置(6)的半径为最小状态,工控系统驱动遮挡装置(6)由半径为最小状态开始以速度V2增大,其中V2=D/T2,之后第二驱动机构驱动遮挡装置(6)远离试样(3)表面;S6.镀制第三薄膜层(303):切换至镀制第三薄膜层(303)的靶材,第一驱动机构驱动光圈(5)至试样(3)表面中心上方并固定,设定镀制第三薄膜层(303)的时间为T3,工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V3增大,其中V3=D/T3,之后第一驱动机构驱动光圈(5)远离试样(3)表面;S7.镀膜完成,关闭非均匀多层薄膜的镀膜设备。
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