[发明专利]胶体量子点改性方法有效
| 申请号： | 201811213616.1 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109400641B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 王立;朱怡远 | 申请（专利权）人： | 南昌大学 |
| 主分类号： | C07F7/24 | 分类号： | C07F7/24;C07F3/08;C09K11/06;C09K11/02;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人： | 施秀瑾 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种胶体量子点改性方法，包括：制备胶体量子点，胶体量子点为表面含有有机配体的钙钛矿型卤化物量子点，且有机配体碳链中含有不饱和键；将胶体量子点涂敷于基底上；将涂敷有胶体量子点的基底置于等离子体设备中，使用等离子体对胶体量子点辐照预设时间，完成对胶体量子点的改性。其通过使用等离子体对胶体量子点辐照的方法诱导量子点表面的有机配体发生碳碳双键聚合，聚合的有机配体可以对胶体量子点进行保护，从而提高胶体量子点的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 胶体 量子 改性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种胶体量子点改性方法，其特征在于，所述改性方法中包括：制备胶体量子点，所述胶体量子点为表面含有有机配体的钙钛矿型卤化物量子点，且所述有机配体碳链中含有不饱和键；将所述胶体量子点涂敷于基底上；将涂敷有胶体量子点的基底置于等离子体设备中，使用等离子体对胶体量子点辐照预设时间，完成对胶体量子点的改性。
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