[发明专利]双向式硅控整流器有效

专利信息
申请号: 201811168635.7 申请日: 2018-10-08
公开(公告)号: CN109616509B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 陈致维;林昆贤 申请(专利权)人: 晶焱科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/747;H01L27/02
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨;侯奇慧
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种双向式硅控整流器,其包含一轻掺杂半导体结构、一第一轻掺杂区、一第二轻掺杂区、一第一掺杂井区、一第二掺杂井区、一第一重掺杂区、一第二重掺杂区、一第三重掺杂区与一第四重掺杂区。轻掺杂半导体结构、第一重掺杂区与第三重掺杂区属于第一导电型,第一轻掺杂区、第二轻掺杂区、第一掺杂井区、第二掺杂井区、第二重掺杂区与第四重掺杂区属于第二导电型。第一轻掺杂区的第一部分位于第一掺杂井区的下方,第二轻掺杂区的第二部分位于第二掺杂井区的下方。
搜索关键词: 双向 式硅控 整流器
【主权项】:
1.一种双向式硅控整流器,其特征在于,包含:一轻掺杂半导体结构,属于第一导电型;一第一轻掺杂区与一第二轻掺杂区,属于第二导电型,该第一轻掺杂区与该第二轻掺杂区设于该轻掺杂半导体结构中;一第一掺杂井区,属于该第二导电型,该第一掺杂井区设于该第一轻掺杂区中,该第一轻掺杂区的第一部分位于该第一掺杂井区的下方;一第二掺杂井区,属于该第二导电型,该第二掺杂井区设于该第二轻掺杂区中,该第二轻掺杂区的第二部分位于该第二掺杂井区的下方;一第一重掺杂区,属于该第一导电型,该第一重掺杂区设于该第一掺杂井区中;一第二重掺杂区,属于该第二导电型,该第二重掺杂区设于该第二掺杂井区中;一第三重掺杂区,属于该第一导电型,该第三重掺杂区设于该第二掺杂井区中;以及一第四重掺杂区,属于该第二导电型,该第四重掺杂区设于该第一掺杂井区中。
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