[发明专利]三维集成电路结构在审

专利信息
申请号: 201811093086.1 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN110648995A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 陈宪伟;杨庆荣;陈明发 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538;H01L25/04;H01L25/16
代理公司: 11270 北京派特恩知识产权代理有限公司 代理人: 康艳青;姚开丽
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种三维集成电路结构,包括管芯堆叠结构、金属电路结构及保护结构。管芯堆叠结构包括面对面接合在一起的第一管芯与第二管芯。金属电路结构设置在第二管芯的后侧之上。保护结构设置在第二管芯的后侧内且分隔第二管芯的多个衬底穿孔中的一者与金属电路结构。
搜索关键词: 第二管 金属电路 管芯 保护结构 堆叠结构 三维集成电路结构 结构设置 接合 穿孔 衬底 分隔
【主权项】:
1.一种三维集成电路结构,其特征在于,包括:/n管芯堆叠结构,包括第一管芯及第二管芯,所述第一管芯具有前侧及后侧,所述第二管芯具有前侧及后侧,所述第一管芯的所述前侧接合到所述第二管芯的所述前侧,所述第二管芯包括多个衬底穿孔;/n金属电路结构,设置在所述第二管芯的所述后侧之上;以及/n第一保护结构,设置在所述第二管芯的所述后侧内且分隔所述第二管芯的所述多个衬底穿孔中的一者与所述金属电路结构。/n
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