[发明专利]一种通用掩模版盒在审
申请号: | 201811041483.4 | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN109116677A | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 朱希进;尤春;刘维维;季书凤;杨长华;薛文卿;张月圆;刘浩;陈青;刘孝君 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 刘刚 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种通用掩模版盒,包括掩模版盒上合盖,掩模版盒上合盖一侧设有掩模版存放盒,掩模版盒上合盖和掩模版存放盒之间通过两个软铰链连接,掩模版盒上合盖和掩模版存放盒上均设有5009掩模版限板,5009掩模版限板分别设置于掩模版盒上合盖和掩模版存放盒的四边中心位置,每个设有两个限位杆,上的限位板之间设有5009掩模版限位槽,掩模版盒上合盖和掩模版存放盒四周均设有6025掩模版限位板,5009掩模版限板内侧设有互为直角的倾斜面,本发明所达到的有益效果是:本发明结构紧凑,在使用方便、功能实用、方便加工且定位简单的同时达到防水雾、防尘的功能,绿色环保。 | ||
搜索关键词: | 掩模版 掩模版盒 合盖 存放盒 限板 通用掩模版 限位板 四边中心位置 绿色环保 防尘 防水雾 倾斜面 软铰链 限位槽 限位杆 加工 | ||
【主权项】:
1.一种通用掩模版盒,包括掩模版盒上合盖(1),其特征在于,所述掩模版盒上合盖(1)一侧设有掩模版存放盒(2),所述掩模版盒上合盖(1)和掩模版存放盒(2)之间通过两个软铰链(3)连接,所述掩模版盒上合盖(1)和掩模版存放盒(2)上均设有5009掩模版限板(6),所述5009掩模版限板(6)分别设置于掩模版盒上合盖(1)和掩模版存放盒(2)的四边中心位置,每个所述(6)设有两个限位杆,所述(6)上的限位板之间设有5009掩模版限位槽(7),所述掩模版盒上合盖(1)和掩模版存放盒(2)四周均设有6025掩模版限位板(8),所述5009掩模版限板(6)内侧设有互为直角的倾斜面,四个所述5009掩模版限板(6)之间的倾斜面之间形成5009掩模版存放区(10),四个所述6025掩模版限位板(8)之间形成6025掩模版存放区(5),每个所述掩模版存放盒(2)上的6025掩模版限位板(8)内两侧各设有一个卡接槽(9),每个所述掩模版盒上合盖(1)上的6025掩模版限位板(8)内两侧各设有一个卡接柱(4),所述卡接柱(4)卡接于卡接槽(9)上,所述掩模版盒上合盖(1)和掩模版存放盒(2)通过卡接柱(4)和卡接槽(9)互相连接。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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