[发明专利]一种整体镭雕工艺

摘要

本发明涉及镭雕技术领域，具体地说是一种整体镭雕工艺。一种整体镭雕工艺，具体工艺如下：将工件放置在镭雕底座上；放入视觉检测设备进行检测，并判断匹配度，若匹配度大于95%，则直接导入镭雕程序；若匹配度小于95%，则使用投影命令；打开3D软件的投影命令；根据镭雕字符到激光垂直点的距离，在软件中字符反向补偿，得到非平面变形字符；导入镭雕程序中，编辑参数后镭雕；判断字符与标准字符的匹配度，若匹配度大于95%，则导入镭雕程序；镭雕工序；结束。同现有技术相比，相比传统的镭雕工艺，可以利用3D投影软件进行镭雕各种镭雕工作面的工作，扩大了镭雕的处理范围，这样，提升了镭雕技术。

主权项

1.一种整体镭雕工艺，其特征在于：具体工艺如下：（1）将需要进行镭雕的工件放置在指定的镭雕底座上；（2）将工件整体镭雕完成后放入视觉检测设备进行检测，并判断每一个字符与标准字符的匹配度是否大于95%，若匹配度大于95%，则直接导入镭雕程序中编辑参数后就可进行镭雕；若匹配度小于95%，则需要在3D软件中使用投影命令将镭雕字符进行反向投影；（3）根据镭雕激光头到产品镭雕表面的距离已知，测量匹配度小于95%的字符与激光垂直点的距离，通过计算得出激光头与镭雕字符的角度；（4）打开3D软件的投影命令，在投影命令中模拟激光头与镭雕字符的相对位置建立投影点；根据镭雕字符到激光垂直点的距离，在软件中反向移动投影点相同的距离进行镭雕字符反向补偿，得到非平面变形字符；（5）将非平面变形字符导入镭雕程序中，编辑参数后进行镭雕；（6）将工件整体镭雕完成后放入视觉检测设备进行检测，判断字符与标准字符的匹配度是否大于95%，若匹配度大于95%，则直接导入镭雕程序中编辑参数后就可进行镭雕；若匹配度小于95%，则进行步骤（3）、（4）、（5）；（7）镭雕工序；（8）结束。