[发明专利]光掩模坯料及其制造方法、光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法

摘要

一种光掩模坯料，可得到高精度的掩模图案，且能够抑制显示不均的光学特性，具有：透明基板；遮光膜，从透明基板侧起具备第一反射抑制层、遮光层、第二反射抑制层，第一反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为25～75原子％、氧的含有率为15～45原子％、氮的含有率为10～30原子％的组成，遮光层为含有铬和氮的铬系材料，具有铬的含有率为70～95原子％，氮的含有率为5～30原子％的组成，第二反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为30～75原子％、氧的含有率为20～50原子％、氮的含有率为5～20原子％的组成，遮光膜的表面及背面对于上述曝光光的曝光波长的反射率分别为10％以下，光学密度为3.0以上。

主权项

1.一种光掩模坯料，在制作显示装置制造用的光掩模时使用，其特征在于，具有：透明基板，由对于曝光光实际上透明的材料构成；遮光膜，设置于所述透明基板上，由对于所述曝光光实际上不透明的材料构成，所述遮光膜从所述透明基板侧起具备第一反射抑制层、遮光层、第二反射抑制层，所述第一反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为25～75原子％、氧的含有率为15～45原子％、氮的含有率为10～30原子％的组成，所述遮光层为含有铬和氮的铬系材料，具有铬的含有率为70～95原子％，氮的含有率为5～30原子％的组成，所述第二反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为30～75原子％、氧的含有率为20～50原子％、氮的含有率为5～20原子％的组成，设定所述第一反射抑制层、所述遮光层及所述第二反射抑制层的膜厚，使所述遮光膜的表面及背面对于所述曝光光的曝光波长的反射率分别为10％以下，且光学密度为3.0以上。