[发明专利]掩模板、曝光方法和触控面板在审
| 申请号： | 201810642760.0 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN108761995A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 郑启涛;许邹明;张雷;田健;张贵玉;刘纯建;吴信涛;陈彤 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 赵伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种掩模板，包括：多个遮光条，所述多个遮光条配置为阻挡光线，所述多个遮光条包围形成的间隙允许光线通过，其中，所述多个遮光条布置成网格状，所述多个遮光条包括第一遮光条和第二遮光条，所述第一遮光条位于所述掩模板的至少一个侧边缘处，所述第一遮光条的宽度大于所述第二遮光条的宽度。还提供一种使用该掩模板的曝光方法和使用该曝光方法制造的触控面板。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光条 掩模板 触控面板 曝光 光线通过 侧边缘 网格状 阻挡 包围 配置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板，其特征在于，包括：多个遮光条，所述多个遮光条配置为阻挡光线，所述多个遮光条包围形成的间隙允许光线通过，其中，所述多个遮光条布置成网格状，所述多个遮光条包括第一遮光条和第二遮光条，所述第一遮光条位于所述掩模板的至少一个侧边缘处，所述第一遮光条的宽度大于所述第二遮光条的宽度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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