[发明专利]一种抗酸膜、显示组件及其化学强化及热固网印工艺过程有效
申请号: | 201810562117.7 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108773152B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 韩龙;罗帅;周叶平;李渊;胡洁;陈火焰;钱毅杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | B32B38/10 | 分类号: | B32B38/10;B41M1/12;G06F3/041;B29C63/02 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种抗酸膜、显示组件及其化学强化及热固网印工艺过程,涉及保护膜领域,能够避免现有技术中因化学强化工艺和热固网印工艺均需要分别进行贴膜和撕膜导致的工艺流程复杂化;该抗酸膜包括:基膜和离型膜;基膜包括抗酸基材以及设置在抗酸基材上的胶层;抗酸基材划分为:中间区域以及包围中间区域的边缘区域;胶层至少覆盖边缘区域的抗酸基材;离型膜至少覆盖胶层;去除离型膜位于边缘区域的部分,以使得抗酸膜在边缘区域具有粘结性,在中间区域不具有粘结性。 | ||
搜索关键词: | 一种 抗酸膜 显示 组件 及其 化学 强化 热固网印 工艺 过程 | ||
【主权项】:
1.一种抗酸膜,其特征在于,所述抗酸膜包括:基膜和离型膜;所述基膜包括抗酸基材以及设置在所述抗酸基材上的胶层;所述抗酸基材划分为:中间区域以及包围所述中间区域的边缘区域;所述胶层至少覆盖所述边缘区域的抗酸基材;所述离型膜至少覆盖所述胶层;去除所述离型膜位于所述边缘区域的部分,以使得所述抗酸膜在所述边缘区域具有粘结性,在所述中间区域不具有粘结性。
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