[发明专利]用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统有效

专利信息
申请号: 201810399652.5 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108588668B 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 刘坤;胡强;孙飞;黄爱青 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/54
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 韩国胜
地址: 110169 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统。多个镀膜室与多个镀膜辊一一对应地设置,每个镀膜室包括一个或多个溅射单元,每个溅射单元包括升降装置、连接于升降装置的磁控溅射靶以及两个靶挡板,两个靶挡板位于磁控溅射靶和镀膜辊之间且间隔以形成延伸在磁控溅射靶和镀膜辊之间的溅射区间,磁控溅射靶和升降装置与电控装置连接。每个溅射区间设有抽气阀和布气阀,二者均与电控装置连接。该卷绕镀膜系统可独立控制每个溅射区间是否使用以及在使用时的工艺参数,能够随意控制镀膜的层数、靶材的种类,在柔性基底上一次性镀制多层工艺参数不同的膜层,提升镀膜效率。
搜索关键词: 溅射 磁控溅射靶 镀膜系统 柔性基底 升降装置 镀膜辊 卷绕 挡板 电控装置 多层薄膜 镀膜室 独立控制 镀膜效率 气阀 抽气阀 一次性 靶材 镀膜 镀制 多层 膜层 制造 延伸
【主权项】:
1.一种用于制造柔性基底多层薄膜的卷绕镀膜系统,包括卷绕镀膜机和电控装置,所述卷绕镀膜机包括真空腔(1)以及位于所述真空腔(1)中的多个镀膜辊,其特征在于,在所述真空腔(1)中设有多个镀膜室,所述多个镀膜室与所述多个镀膜辊一一对应地设置,每个所述镀膜室包括一个或多个溅射单元,在镀膜室包括多个所述溅射单元时,多个所述溅射单元围绕所述镀膜辊的外表面弧形排列,并且相邻两个所述溅射单元之间设有一镀膜室隔离板(22);其中,每个所述溅射单元包括升降装置(29)、连接于所述升降装置(29)的磁控溅射靶(28)以及对应于所述磁控溅射靶(28)设置的两个靶挡板(27),所述磁控溅射靶(28)朝向所在镀膜室对应的镀膜辊设置,并且所述两个靶挡板(27)位于所述磁控溅射靶(28)和所述镀膜辊之间且间隔以形成延伸在所述磁控溅射靶(28)和所述镀膜辊之间的溅射区间(26),所述磁控溅射靶(28)和所述升降装置(29)与所述电控装置连接;每个所述镀膜室的每个所述溅射区间(26)均设有控制从该溅射区间(26)中抽气的抽气阀和控制向该溅射区间(26)内布气的布气阀,所述抽气阀用于与抽真空设备连接,所述布气阀用于与布气设备连接,所述抽气阀和所述布气阀均与所述电控装置连接;多个所述镀膜室呈波浪形布置。
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