[发明专利]一种加厚层镀锌的高方阻铝膜在审
| 申请号： | 201810347335.9 | 申请日： | 2018-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108550464A | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 钱锦绣 | 申请（专利权）人： | 钱立文 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/32;H01G4/002 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 244000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明一种加厚层镀锌的高方阻铝膜，包括基膜(1)、通过汽相沉淀法蒸镀在基膜(1)蒸镀面的由Al和/或Zn构成金属镀层、以及位于金属镀层两侧的空白留边区(5)，所述金属镀层包括蒸镀在Al镀层之上的镀层加厚区(2)、纯Al镀层的高方阻区(4)以及蒸镀在Al镀层之上的位于加厚区(2)与高方阻区(4)之间的方阻渐变区(3)；所述高方阻区(4)为金属Al镀层，所述镀层加厚区(2)以及方阻渐变区(3) 为金属Zn镀层。本发明自愈性好，高方阻区镀层不易氧化，容易储存，可有效减小电容器的体积，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 方阻 镀层 蒸镀 金属镀层 镀层加厚区 加厚层 渐变区 镀锌 基膜 铝膜 电容器 沉淀法 加厚区 金属Al 自愈性 减小 储存 金属 | ||
【主权项】：
1.一种加厚层镀锌的高方阻铝膜，包括基膜(1)、通过汽相沉淀法蒸镀在基膜(1)蒸镀面的由Al和/或Zn构成金属镀层、以及位于金属镀层两侧的空白留边区(5)，其特征在于：所述金属镀层包括蒸镀在Al镀层之上的镀层加厚区(2)、纯Al镀层的高方阻区(4)以及蒸镀在Al镀层之上的位于加厚区(2)与高方阻区(4)之间的方阻渐变区(3)。
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