[发明专利]一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法

摘要

一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法，包括以下步骤：1、根据DMD微镜面积的大小，计算在微镜中图像上每个像素点与图像中心点的实际距离；2、通过镜头与DMD微镜之间的距离和像素点与中心点的距离计算像素点与光轴的角度；3、根据镜头出厂时的畸变参数计算每个像素点的畸变量；4、利用计算得到的畸变量修正原始图像，得到预畸变图像。本发明可以大幅度矫正因光学系统导致的图像畸变，避免由于光学镜头生产中本身误差因素而带来的缺陷，更加精确的实现PCB线路曝光。

主权项

1.一种无掩模光刻技术中的镜头畸变矫正方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、根据DMD微镜的面积和图像的尺寸，按照映射关系计算在DMD微镜中图像上每个像素点与中心点的距离aij；1)建立以图像的中心点作为原点，水平方向为x轴，垂直方向为y轴建立图像坐标系xO2y，然后计算像素点在图像坐标系中的坐标(i，j)；2)根据DMD微镜面积与图像尺寸之间的映射关系，即如果图像进行完全投影，则在投影时图像将等比变换为DMD微镜的大小，因此利用像素点的位置计算出像素点与图像中心的实际距离aij；步骤2、根据镜头出厂参数计算得出镜头与DMD微镜之间的水平距离b，然后结合第一步中得到的图像上每个像素点与中心点的距离aij，然后利用反三角函数计算得出每个像素点与镜头光轴的夹角θij；步骤3、根据镜头出厂时的畸变参数和每个像素点与光轴的夹角θij计算得到每个像素点的畸变量zij，并且利用像素点的位置计算得到在水平方向上的畸变量xij和垂直方向上的畸变量yij；1)根据镜头出厂参数可知，镜头的非线性畸变与入射光线与镜头光轴的夹角有关，具体畸变量与变化曲线如图1所示，因此可以利用三次样条插值算法拟合出第二步中获得的夹角θij产生的非线性畸变量zij；2)利用像素点的位置计算畸变量zij在水平方向上的投影xij和垂直方向上的投影yij，具体计算公式为：步骤4、在于保证印刷电路板图像信息不丢失的情况下，根据第三步中得到的水平和垂直方向上的畸变量(xij，yij)对原始图像中的像素点进行反向移位处理，从而得到预畸变图像。