[发明专利]一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构在审
| 申请号： | 201810079005.6 | 申请日： | 2018-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN110082856A | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 余忠伟;林磊;蔡光明;郑彬 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人： | 戴雨君 |
| 地址： | 350000 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构，相位掩模板具有光栅侧和非光栅侧，相位掩模板的非光栅侧间隔设有多个光纤定位槽，多根裸光纤定位在相位掩模板非光栅侧定位槽内，多根裸光纤所在平面平行于相位掩模板。本发明通过在相位掩模板非光栅侧设计均匀分布的光纤定位槽，将光纤均匀排布，控制定位槽深，使多根光纤位于相位掩模板近场衍射区域内，同时接受紫外光束的曝光，进行多根光纤光栅的同时刻写。本发明方法能够极大程度的提高光纤光栅的生产效率，有效的利用紫外光束的能量，提高光纤光栅的产能，降低光纤光栅的制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 相位掩模板 光栅 刻写 光纤光栅 光纤定位槽 多根光纤 紫外光束 定位槽 多光纤 裸光纤 均匀排布 生产效率 所在平面 衍射区域 产能 近场 平行 光纤 曝光 制作 | ||
【主权项】：
1.一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构，其特征在于：相位掩模板具有光栅侧和非光栅侧，相位掩模板的非光栅侧间隔设有多个光纤定位槽，多根裸光纤定位在相位掩模板非光栅侧定位槽内，多根裸光纤所在平面平行于相位掩模板。
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