[发明专利]铜箔基板的制作方法及由该方法制得的铜箔基板有效

专利信息
申请号: 201810041790.6 申请日: 2018-01-16
公开(公告)号: CN110049636B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 徐筱婷;何明展 申请(专利权)人: 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司;宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司
主分类号: H05K3/38 分类号: H05K3/38;H05K1/03;H05K1/09
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 薛晓伟;饶婕
地址: 518105 广东省深圳市宝安区燕*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种铜箔基板的制作方法,其包括:提供一基板;对所述基板进行表面氧化处理,以在该基板的至少一表面上形成活化官能团;通过物理气相沉积在所述基板上形成铜铬合金层,该铜铬合金层与基板之间形成化学键合;在所述铜铬合金层的远离基板的表面形成铜层。所述铜箔基板的制作方法,先对基板进行表面氧化处理,在基板表面形成活化官能团,再在基板上形成铜铬合金层,然后在铜铬合金层上形成铜层,如此,可以使铜铬合金层与基板之间形成化学键合,使得铜铬合金层与基板之间具有较强的结合力,进而使得铜层与基板之间具有较强的结合力。另,本发明还提供一种应用所述铜箔基板的制作方法制得的铜箔基板。
搜索关键词: 铜箔 制作方法 法制
【主权项】:
1.一种铜箔基板的制作方法,其包括如下步骤:提供一基板;对所述基板进行表面氧化处理,以在该基板的至少一表面上形成活化官能团;通过物理气相沉积在所述基板上形成铜铬合金层,该铜铬合金层与基板之间形成化学键合;在所述铜铬合金层的远离基板的表面形成铜层。
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