[发明专利]溶液、溶液收容体、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、半导体装置的制造方法有效
| 申请号： | 201780053869.4 | 申请日： | 2017-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN109661615B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 上村哲也 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种含有98质量％以上的机溶剂作为主成分，且缺陷抑制性能优异的溶液。本发明的另一课题在于提供一种收容有所述溶液的溶液收容体、含有所述溶液的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了所述溶液的图案形成方法及半导体装置的制造方法。本发明的溶液为具有至少一种沸点小于200℃的有机溶剂和沸点为250℃以上的有机杂质的溶液，所述有机溶剂的含量相对于溶液总质量为98质量％以上，所述有机杂质的含量相对于溶液总质量为0.1质量ppm以上且小于100质量ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 溶液 收容 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 图案 形成 方法 半导体 装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种溶液，其为含有至少一种沸点小于200℃的有机溶剂和沸点为250℃以上的有机杂质的溶液，其中，所述有机溶剂的含量相对于溶液总质量为98质量％以上，所述有机杂质的含量相对于溶液总质量为0.1质量ppm以上且小于100质量ppm。
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