[发明专利]减少苯乙烯和乙烯基吡啶的共聚物中的残余单体含量在审

专利信息
申请号: 201780053327.7 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN109641981A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 王小军;G.B.阿罕塞特;R.V.恩布斯;J.休姆 申请(专利权)人: 诺华丝国际股份有限公司
主分类号: C08F6/06 分类号: C08F6/06;C08F6/12;C08F6/10;C08L25/08;C08L25/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李进;杨思捷
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 具有小于约十亿分之1000的残余单体水平的苯乙烯和乙烯基吡啶的共聚物和用于制备所述共聚物的方法。
搜索关键词: 共聚物 乙烯基吡啶 残余单体 苯乙烯 制备
【主权项】:
1.一种用于制备苯乙烯和乙烯基吡啶的共聚物的方法,所述共聚物的残余单体含量小于约十亿分之1000(ppb),所述方法包括:a)将苯乙烯和乙烯基吡啶单体、水性溶剂、碱化剂和表面活性剂混合以形成乳液;b)在聚合引发剂存在下在约50℃至约60℃的温度下加热所述乳液以形成苯乙烯‑乙烯基吡啶共聚物;c)使步骤(b)的所述乳液与磷酸氢钠接触以形成凝结的共聚物;且d)在减压或惰性气氛下在至少约60℃的温度下分离并干燥所述凝结的共聚物,以产生苯乙烯和乙烯基吡啶的共聚物,其中所述残余单体含量小于约1000ppb。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺华丝国际股份有限公司,未经诺华丝国际股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780053327.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top