[发明专利]过渡金属化合物、其制造方法及包含其的含过渡金属薄膜蒸镀用组合物有效

专利信息
申请号: 201780023511.7 申请日: 2017-04-06
公开(公告)号: CN109071571B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 金铭云;李相益;蔡元默;任相俊;李刚镛;曹儿罗;全相勇;林幸墩 申请(专利权)人: DNF有限公司
主分类号: C07F7/10 分类号: C07F7/10;C23C16/18;C23C16/40
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;金世煜
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及新型过渡金属化合物、其制造方法、包含其的含过渡金属薄膜蒸镀用组合物、利用含过渡金属薄膜蒸镀用组合物的含过渡金属薄膜和含过渡金属薄膜的制造方法,本发明的过渡金属化合物的热稳定性高,挥发性高,储存稳定性高,从而将其用作前体能够容易地制造出高密度和高纯度的含过渡金属薄膜。
搜索关键词: 过渡 金属 化合物 制造 方法 包含 薄膜 蒸镀用 组合
【主权项】:
1.一种由下述化学式1表示的过渡金属化合物:化学式1所述化学式1中,M为元素周期表中的第4族的过渡金属;R1至R4彼此独立地为氢原子或(C1‑C20)烷基;R5和R6彼此独立地为氢原子、(C1‑C20)烷基、(C6‑C20)芳基、(C6‑C20)芳基(C1‑C20)烷基或(C1‑C20)烷氧基;A为‑(CR11R12)a‑,R11和R12彼此独立地为氢、(C1‑C20)烷基、C6‑C20)芳基、(C6‑C20)芳基(C1‑C20)烷基或(C1‑C20)烷氧基,a为1至3的整数;D为‑N(R13)‑,R13为氢原子、(C1‑C20)烷基、(C3‑C20)环烷基、(C6‑C20)芳基、(C6‑C20)芳基(C1‑C20)烷基、(C1‑C20)烷基羰基或(C3‑C20)环烷基羰基;X彼此独立地为(C1‑C20)烷基、(C6‑C20)芳基、(C6‑C20)芳基(C1‑C20)烷基、(C1‑C20)烷氧基、被(C3‑C20)烷基取代或未取代的甲硅烷基、(C3‑C20)杂环烷基、被(C1‑C20)烷基或(C6‑C20)芳基取代或未取代的氨基、被(C1‑C20)烷基或(C6‑C20)芳基取代或未取代的酰胺基、被(C1‑C20)烷基或(C6‑C20)芳基取代或未取代的膦基、被(C1‑C20)烷基或(C6‑C20)芳基取代或未取代的次膦基,其中,X为环戊二烯基衍生物的情况除外;所述R1至R6、A、D和X的烷基、环烷基、芳基、芳基烷基、烷基羰基、环烷基羰基或烷氧基还可以被(C1‑C20)烷基、(C3‑C20)环烷基、(C6‑C20)芳基或(C6‑C20)芳基(C10‑C20)烷基取代;n为1或2的整数。
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