[实用新型]一种对置靶座磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201721899340.8 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN207727140U | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 顾骏;顾为民;任高潮;金浩;王德苗;冯斌 | 申请（专利权）人： | 苏州求是真空电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;俞翠华 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种对置靶座磁控溅射装置，包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控溅射基台座的顶表面，用于夹持固定待溅射基片；所述挡板组件包括多个挡板，其中一个挡板设于磁控溅射基台座的上方，其余的挡板分别设于对应的磁控溅射靶座下方，用于隔开磁控溅射各个靶座和磁控溅射基台座。本实用新型既可以实现对基片材料的在线等离子清洗功能，同时可以减小电子对基片的轰击。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 基台座 磁控溅射靶 挡板 靶座 磁控溅射装置 本实用新型 挡板组件 真空室 对置 夹持 压片 等离子清洗 基片材料 夹持固定 顶表面 夹角为 隔开 减小 溅射 锐角 轰击 | ||
【主权项】：
1.一种对置靶座磁控溅射装置，其特征在于：包括磁控溅射靶座、磁控溅射基台座、夹持压片和挡板组件；所述磁控溅射靶座安装在真空室上方；所述磁控溅射基台座安装在真空室下方，其与所述磁控溅射靶座之间的具有夹角，所述夹角为锐角；所述夹持压片设于磁控溅射基台座的顶表面，用于夹持固定待溅射基片；所述挡板组件包括多个挡板，其中一个挡板设于磁控溅射基台座的上方，其余的挡板分别设于对应的磁控溅射靶座下方，用于隔开磁控溅射靶座和磁控溅射基台座。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州求是真空电子有限公司，未经苏州求是真空电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201721899340.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种磁控溅射镀膜用加热装置
- 下一篇：一种三层真空电镀夹具
- 同类专利
- 专利分类
