[实用新型]用于浸没式光刻机的微流道气液分离回收装置有效

专利信息
申请号: 201721805176.X 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN207601509U 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 付新;厉明波;胡亮;陈文昱 申请(专利权)人: 浙江启尔机电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B01D45/02;B01D45/12
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱月芬
地址: 310000 浙江省杭州市临安市青山湖*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及用于浸没式光刻机的微流道气液分离回收装置。本实用新型中注液通道、浸没流场、液体回收模块、气液回收模块和密封气体供给模块设置在浸没式光刻机的浸没单元内浸没单元上盖板与浸没单元下盖板之间,投影透镜组底部镜头与浸没单元中部浸没流场内流体相触。缝隙流场设置在硅片衬底上表面与浸没单元下底面之间。本实用新型在保证有效流场密封维持的同时,通过将气液分离、分通道回收,减小由于气液两相混合回收所引起的回收流道和输运管道振动及其对缝隙流场的冲击,提高硅片扫描曝光的质量。有效维持曝光过程中的工作温度场恒定。增大了浸没流场回收面积,实现稳定高效地注液回收,在保证曝光质量的前提下,提高光刻机的扫描速度。
搜索关键词: 浸没 浸没式光刻机 本实用新型 回收 分离回收装置 缝隙流场 硅片 流场 恒定 衬底上表面 投影透镜组 供给模块 回收流道 密封气体 曝光过程 气液分离 气液回收 气液两相 扫描曝光 输运管道 液体回收 注液通道 分通道 光刻机 流体相 上盖板 温度场 下底面 下盖板 有效流 减小 注液 密封 扫描 保证 镜头 曝光
【主权项】:
1.用于浸没式光刻机的微流道气液分离回收装置,包括硅片衬底、注液通道、浸没流场、缝隙流场、液体回收模块、气液回收模块和密封气体供给模块;其特征在于:所述的注液通道、浸没流场、液体回收模块、气液回收模块和密封气体供给模块设置在浸没式光刻机的浸没单元内浸没单元上盖板与浸没单元下盖板之间,投影透镜组底部镜头与浸没单元中部浸没流场内流体相触;缝隙流场设置在硅片衬底上表面与浸没单元下底面之间;液体回收模块包括回收排孔、液体回收缓冲腔、液体回收流道和一级液体真空回收系统;气液回收模块包括气液回收流道、液体回收腔、气体回收腔、复合多孔介质、二级液体真空回收系统和气体真空回收系统;密封气体供给模块包括密封气体注入腔、密封气体缓冲腔、气密封排孔和密封气体处理供给系统;所述的浸没单元整体为圆柱形,其圆心为浸没流场;以浸没流场为圆心由内而外分布有液体回收模块的回收排孔、气液回收模块的复合多孔介质和密封气体供给模块的气密封排孔;气液回收模块的复合多孔介质底面与浸没单元下盖板底面有高度差,作为气液回收模块的气液回收流道;填充有复合多孔介质的气液回收流道位于回收排孔和气密封排孔之间;浸没流场设置在浸没单元中部,为上大下小的圆台型流场,沿浸没流场侧面设置有圆环形注液通道,用于将浸液处理系统供给的浸没液体经外连接管路从注液通道连续地注入形成浸没流场;浸没流场与硅片衬底之间有缝隙,浸没流场中的浸没液体流入该缝隙形成缝隙流场;所述的液体回收模块、气液回收模块和密封气体供给模块均为垂直于硅片衬底设置的圆环柱;液体回收模块底部为回收排孔,回收排孔与缝隙流场中浸没液体相触;回收排孔上面为液体回收缓冲腔,液体回收缓冲腔上面为液体回收流道;液体回收流道与一级液体真空回收系统通过软管连接;所述的气液回收模块底部为气液回收流道,气液回收流道与缝隙流场的边沿浸没液体相触;气液回收流道上面为复合多孔介质,复合多孔介质分为中间内层多孔介质回收圈,和两个分别设置在内层多孔介质回收圈内外环的外层多孔介质回收圈;内层多孔介质回收圈与浸没单元上盖板组成的空腔作为液体回收腔;两个外层多孔介质回收圈与浸没单元上盖板或浸没单元下盖板组成的两个空腔作为两个气体回收腔;液体回收腔与二级液体真空回收系统通过软管连接,实现浸没液体的回收;两个气体回收腔均与气体真空回收系统通过软管连接,实现密封气体的回收;所述的密封气体供给模块底部为密封气体注入腔,密封气体注入腔设置在缝隙流场的边沿位置;密封气体注入腔上面为密封气体缓冲腔,密封气体缓冲腔上面为气密封排孔;气密封排孔与密封气体处理系统供给通过软管连接。
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