[实用新型]常压低温等离子体处理种子设备有效
申请号: | 201721644498.0 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN207706501U | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 万良淏;戴阳 | 申请(专利权)人: | 南京苏曼等离子科技有限公司 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 南京源古知识产权代理事务所(普通合伙) 32300 | 代理人: | 马晓辉 |
地址: | 211178 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种常压低温等离子体处理种子设备,包括低温等离子体处理基台和低温等离子体金属电极,所述低温等离子体理基台和大地地线连接,所述的低温等离子体金属电极与高压连接,所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管内,设有绝缘体介质板位于低温等离子体处理基台上,覆盖低温等离子体处理基台,所示绝缘体介质管通过四氟支架固定,并使所述绝缘体介质管与所述低温等离子体处理基台保持水平,所述四氟支架上设有手柄,所述四氟支架的两端通过侧板和所述低温等离子体处理基台连接,并能够在绝缘体介质板上平稳滑动。本实用新型操作简便、可控性强、处理成本低。 | ||
搜索关键词: | 低温等离子体处理 绝缘体介质 低温等离子体 基台 金属电极 四氟 常压低温等离子体 本实用新型 种子设备 支架 手柄 地线连接 高压连接 基台连接 支架固定 可控性 滑动 侧板 管内 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种常压低温等离子体处理种子设备,包括低温等离子体处理基台(6)和低温等离子体金属电极,所述低温等离子体处理基台(6)和大地地线连接,所述的低温等离子体金属电极与高压连接,其特征在于:所述低温等离子体金属电极设置在绝缘体介质管(5)内,低温等离子体处理基台(6)上设有绝缘体介质板(2),所述的绝缘体介质板(2)覆盖低温等离子体处理基台(6),所示绝缘体介质管(5)通过四氟支架(3)固定,并使所述绝缘体介质管(5)与所述低温等离子体处理基台(6)保持水平,所述四氟支架(3)上设有手柄(4),所述四氟支架(3)的两端通过侧板(7)和所述低温等离子体处理基台(6)连接,并能够在绝缘体介质板(2)上平稳滑动。
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