[实用新型]硅片清洗机的供水装置以及硅片生产系统

摘要

本实用新型涉及一种硅片清洗机的供水装置，其包括清洗用水加热机构及余热利用机构；余热利用机构包括热媒水箱、空压机余热器、及用于将热媒水箱中的热媒水泵入空压机余热器中以加热的热媒水泵；清洗用水加热机构包括进水管路、出水管路、用于对清洗用水进行换热升温的板式换热器；板式换热器具有清洗用水进口、清洗用水出口、与空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、及热媒水出口。该供水装置，采用硅片生产过程中的空压机的余热对清洗用水进行升温，使进入硅片清洗机中的清洗用水水温较高，进而降低硅片清洗机的加热所需的电量，降低能耗；同时有利于硅片成本的降低。本实用新型还公开一种硅片生产系统。

主权项

一种硅片清洗机的供水装置，其特征在于，包括清洗用水加热机构以及余热利用机构；所述余热利用机构包括：热媒水箱，用于存储热媒水；空压机余热器，用于对热媒水进行加热；以及热媒水泵，用于将所述热媒水箱中的热媒水泵入所述空压机余热器中；所述清洗用水加热机构包括：进水管路，用于引入清洗用水；出水管路，用于将清洗用水引入硅片清洗机中；以及板式换热器，用于对清洗用水进行换热升温；所述板式换热器具有与所述进水管路连通的清洗用水进口、与所述出水管路连通的清洗用水出口、与所述空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。