[实用新型]离子注入设备有效
| 申请号： | 201721040144.5 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN207458887U | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 何川;洪俊华;张劲;陈炯;杨勇 | 申请（专利权）人： | 上海凯世通半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/32;H01J37/244;H01L21/265 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;杨东明 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子注入设备，包括离子源、一与该真空腔相连通的掺杂气体供应装置、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流。通过偏转，可以通过采样部分或者全部束流，从而得知束流中氢和掺杂源元素的比例，并且通过检测结果来调整气态掺杂源和/或氢气的供应量，由此获得较为理想的束流参数。 | ||
| 搜索关键词： | 束流 掺杂源 氢离子 离子束流 检测装置 离子注入设备 传输路径 氢气供应装置 偏转 本实用新型 掺杂气体 供应装置 检测结果 偏转元件 供应量 氢气 离子源 真空腔 采样 检测 | ||
【主权项】：
一种离子注入设备，其包括离子源，该离子源包括一真空腔，以及引出电极，其特征在于，该离子源还包括有：一掺杂气体供应装置，用于容置气态掺杂源以及将气态掺杂源传输至该真空腔中以在该真空腔中产生掺杂源等离子体；一氢气供应装置，用于将氢气传输至该真空腔中，进入该真空腔中的氢气在该真空腔中产生氢等离子体；连接于该掺杂气体供应装置和该真空腔之间的第一流量计，用于控制被传输至该真空腔中的气态掺杂源的流量，连接于该氢气供应装置和该真空腔之间的第二流量计，用于控制被传输至该真空腔中的氢气的流量；该引出电极用于从该真空腔中引出束流以完成对衬底的离子注入，其中该束流中包括掺杂源离子束流和氢离子束流，该离子注入设备还包括：位于该引出电极下游的偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流或电流密度，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流或电流密度。
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