[实用新型]屏蔽膜的加工系统

摘要

本实用新型提供了一种屏蔽膜的加工系统，涉及电磁屏蔽技术领域。屏蔽膜的加工系统包括半成品加工系统以及成品加工系统；半成品加工系统用于在载体膜上涂布绝缘层以制得屏蔽膜的半成品；成品加工系统用于在保护膜上涂布导电层，并复合导电层与绝缘层以制得屏蔽膜的成品，解决了现有技术中存在的在屏蔽膜的半成品上直接涂布导电层胶水，容易造成涂布不均、涂布连续性降低、外观缺陷、影响产品性能的技术问题，由于成品加工系统首先在保护膜上涂布导电层，继而将导电层与半成品的绝缘层进行复合进而得到屏蔽膜，使得屏蔽膜的外观和性能更好。 1

主权项

1.一种屏蔽膜的加工系统，其特征在于，包括半成品加工系统(100)以及成品加工系统(200)；

所述半成品加工系统(100)用于在载体膜上涂布绝缘层以制得所述屏蔽膜的半成品；

所述成品加工系统(200)用于在保护膜上涂布导电层，并复合所述导电层与所述绝缘层以制得所述屏蔽膜的成品；

所述半成品加工系统(100)包括依次连接的第一发送装置(110)、第一涂布装置(120)、第一烘干装置(130)以及第一压合装置(140)；

所述第一发送装置(110)用于发送所述载体膜至所述第一涂布装置(120)；

所述第一涂布装置(120)用于在所述载体膜上涂布所述绝缘层；

所述第一烘干装置(130)用于对所述绝缘层进行烘干；

所述第一压合装置(140)用于使涂布所述绝缘层的所述载体膜经过所述第一压合装置(140)后得到所述半成品；

所述成品加工系统(200)包括依次连接的第二发送装置(210)、第二涂布装置(220)、第二烘干装置(230)、第二压合装置(240)以及第三发送装置(250)；

所述第二发送装置(210)用于发送所述保护膜至所述第二涂布装置(220)；

所述第二涂布装置(220)用于在所述保护膜上涂布所述导电层；

所述第二烘干装置(230)用于对所述导电层进行烘干；

所述第三发送装置(250)用于发送所述半成品至所述第二压合装置(240)；

所述第二压合装置(240)用于对所述导电层和所述绝缘层进行压合以得到所述成品。

2.根据权利要求1所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述半成品加工系统(100)还包括第一收卷装置(150)；

所述第一收卷装置(150)与所述第一压合装置(140)相连。

3.根据权利要求1所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述成品加工系统(200)还包括第二收卷装置(260)；

所述第二收卷装置(260)与所述第二压合装置(240)相连。

4.根据权利要求1所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述保护膜的材质包括离型膜、离型纸或无粘性的PET。

5.根据权利要求1所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述第一涂布装置(120)和所述第二涂布装置(220)均包括涂刷件。

6.根据权利要求5所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述涂刷件为狭缝式涂布头、逗号涂布头或刮刀。

7.根据权利要求1‑6中任一项所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述半成品加工系统(100)还包括辅层涂覆装置；

所述辅层涂覆装置位于所述第一烘干装置(130)与所述第一压合装置(140)之间，用于涂覆辅层至所述绝缘层背离所述载体膜的一侧。

8.根据权利要求7所述的屏蔽膜的加工系统，其特征在于，所述辅层包括金属层或石墨烯层。