[实用新型]一种气体管道密封结构及干法刻蚀设备

摘要

本实用新型公开了一种气体管道密封结构及干法刻蚀设备，属于半导体制造技术领域，干法刻蚀设备包括反应室，反应室上设置有注气口，气体管道密封结构包括压圈，为环状结构，套设于注气口上；注气管道，包括第一套叠部和第二套叠部，第一套叠部与压圈相套叠，第二套叠部与注气口相套叠；Y型密封圈，套设于注气口上并设置于压圈的上端面与第一套叠部和第二套叠部的交接处之间；Y型密封圈挤压注气口、压圈及注气管道。上述技术方案的有益效果是使用Y型密封圏，在紧固螺母自下向上锁紧时，Y型密封圈的开口处会向两边张开使密封圈与注气口外表面贴合密封更好，保证管道拆装后具有良好的气密性，避免出现泄漏状况。

主权项

一种气体管道密封结构，适用于干法刻蚀设备，所述干法刻蚀设备包括反应室，所述反应室上设置有注气口，其特征在于，所述气体管道密封结构包括：压圈，为环状结构，套设于所述注气口上；注气管道，包括第一套叠部和第二套叠部，所述第一套叠部与所述压圈相套叠，所述第二套叠部与所述注气口相套叠；Y型密封圈，套设于所述注气口上并设置于所述压圈的上端面与所述第一套叠部和所述第二套叠部的交接处之间；所述Y型密封圈挤压所述注气口、压圈及所述注气管道。