[实用新型]激光溅射离子源的发生装置有效

专利信息
申请号: 201720796026.0 申请日: 2017-07-04
公开(公告)号: CN206819968U 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 孟路燕;池超贤 申请(专利权)人: 东华理工大学
主分类号: H01J49/14 分类号: H01J49/14;H01J49/10
代理公司: 北京久维律师事务所11582 代理人: 邢江峰
地址: 330000 江西省南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型提供一种结构设计新颖、紧凑、靶体使用率高的激光溅射离子源的发生装置;包括离子源的靶体;还包括反应源,所述反应源上设有一通孔,还包括设置于反应源后侧的脉冲激光器,所述脉冲激光器射出的激光束经过透镜聚焦后穿过通孔打在靶体前端的A面上;所述靶体前端的A面与反应源前侧的B面面接触,所述靶体相对反应源前侧的B面做自转和上下往复滑动的动作。
搜索关键词: 激光 溅射 离子源 发生 装置
【主权项】:
一种激光溅射离子源的发生装置,包括离子源的靶体;其特征在于:还包括反应源,所述反应源上设有一通孔,还包括设置于反应源后侧的脉冲激光器,所述脉冲激光器射出的激光束经过透镜聚焦后穿过通孔打在靶体前端的A面上;所述靶体前端的A面与反应源前侧的B面面接触,所述靶体相对反应源前侧的B面做自转和上下往复滑动的动作。
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