[实用新型]芯体组件钠流动控制系统有效
| 申请号： | 201720781526.7 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN207489486U | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | M·安德森;J·H·乔伊;R·B·杰克逊;G·T·马卡姆;M·G·马丁;M·R·维尔纳 | 申请（专利权）人： | 泰拉能源有限责任公司 |
| 主分类号： | G21C15/18 | 分类号： | G21C15/18 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘敏;吴鹏 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种芯体组件钠流动控制系统，包括：芯体支承结构；掩蔽元件，所述掩蔽元件限定设置在所述掩蔽元件的第一高度处的至少一个掩蔽元件开口，其中所述掩蔽元件设置在所述芯体支承结构的第一侧；和构造成与所述掩蔽元件配合的流动堆叠装置，其中所述流动堆叠装置包括：限定多个流动堆叠装置入口的壁，其中所述多个流动堆叠装置入口中的至少一个构造成在所述流动堆叠装置与所述掩蔽元件配合时与所述至少一个掩蔽元件开口对齐；和设置在所述流动堆叠装置内的流动控制组件，其中所述流动控制组件构造成限制所述流动堆叠装置内的流体的流动。 | ||
| 搜索关键词： | 掩蔽元件 堆叠装置 流动 流动控制系统 流动控制组件 支承结构 芯体 开口 本实用新型 芯体组件 对齐 流体 种芯 配合 | ||
【主权项】：
一种芯体组件钠流动控制系统，其特征在于，包括：芯体支承结构；掩蔽元件，所述掩蔽元件限定设置在所述掩蔽元件的第一高度处的至少一个掩蔽元件开口，其中所述掩蔽元件设置在所述芯体支承结构的第一侧；和构造成与所述掩蔽元件配合的流动堆叠装置，其中所述流动堆叠装置包括：限定多个流动堆叠装置入口的壁，其中所述多个流动堆叠装置入口中的至少一个构造成在所述流动堆叠装置与所述掩蔽元件配合时与所述至少一个掩蔽元件开口对齐；和设置在所述流动堆叠装置内的流动控制组件，其中所述流动控制组件构造成限制所述流动堆叠装置内的流体的流动。
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