[实用新型]一种真空除气电镀装置有效
申请号: | 201720244460.8 | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN206768268U | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
发明(设计)人: | 孙广毅;郑德印 | 申请(专利权)人: | 天津市拱石科技有限公司 |
主分类号: | C25D21/04 | 分类号: | C25D21/04 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司12002 | 代理人: | 刘书元 |
地址: | 300384 天津市西青*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空除气电镀装置,包括电镀池,里面盛放具有待电镀金属离子的电镀液;电镀液补偿池,与电镀池通过管道连接,里面盛放电镀液,用于补偿电镀池中电镀液浓度的变化;热板,用于电镀池的加热;密封盖,包括密封垫圈用于保证电镀池的密封性;输入电极,包括连接到正极的金属阳极和连接到负极的样品阴极;真空泵,用于电镀池的真空除气;真空释放阀门,用于电镀之后电镀池中的负压释放;控制系统,用于热板温度、阀门开闭、真空泵开闭的控制。本实用新型解决了氢气过多地堆积在电镀表面对电镀产品质量造成的影响,使电镀产品的质量达到了理想的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 电镀 装置 | ||
【主权项】:
一种真空除气电镀装置,其特征在于:包括电镀池,里面盛放具有待电镀金属离子的电镀液;包括电镀液补偿池,用于补偿电镀池中电镀液浓度的变化,电镀池和电镀液补偿池之间设有电镀液补偿通道阀门;包括热板,设置在电镀池底部,用于电镀池的加热;包括密封盖,设置在电镀池顶部开口,并通过设有的密封垫圈保证电镀池的密封性;包括输入电极,该输入电极包括连接到正极的金属阳极和连接到负极的样品阴极;所述的金属阳极和样品阴极设置在电镀池内;包括真空泵,用于电镀池的真空除气;包括真空释放阀门,用于电镀之后电镀池中的负压释放;包括控制系统,用于热板温度、真空释放阀门和电镀液补偿通道阀门开闭、真空泵开闭的控制。
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