[实用新型]一种负离子瓷砖有效
申请号: | 201720137843.5 | 申请日: | 2017-02-16 |
公开(公告)号: | CN206538972U | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 范桂顺 | 申请(专利权)人: | 范桂顺 |
主分类号: | E04F15/02 | 分类号: | E04F15/02 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人: | 余志军 |
地址: | 辽宁省营口*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种负离子瓷砖,包括底部的坯体层和顶部的面层,其特征在于所述的坯体层上设置有底层,底层上设置有附着层,附着层与面层之间设置有负离子层,坯体层与底层的接触面上设置有多个凹槽与凸起,附着层的表面硬度小于底层的硬度,面层由底釉层和面釉层组成,底层的厚度为1~2mm,附着层的厚度为0.5~1.0mm,负离子层的厚度为0.1~0.8mm。 | ||
搜索关键词: | 一种 负离子 瓷砖 | ||
【主权项】:
一种负离子瓷砖,包括底部的坯体层和顶部的面层,其特征在于:所述的坯体层上设置有底层,底层上设置有附着层,附着层与面层之间设置有负离子层,坯体层与底层的接触面上设置有多个凹槽与凸起,附着层的表面硬度小于底层的硬度,面层由底釉层和面釉层组成,底层的厚度为1~2mm,附着层的厚度为0.5~1.0mm,负离子层的厚度为0.1~0.8mm。
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