[实用新型]一种成核面镜面抛光的CVD多晶金刚石磨条有效
申请号: | 201720096043.3 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN206550883U | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 陈继锋;李卫 | 申请(专利权)人: | 廊坊西波尔钻石技术有限公司 |
主分类号: | B24D15/00 | 分类号: | B24D15/00;B24D18/00 |
代理公司: | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人: | 毛燕生 |
地址: | 065300 河北省廊*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种成核面镜面抛光的CVD多晶金刚石磨条,属于CVD金刚石磨粒磨条技术领域。热丝CVD、直流喷射CVD法或者微波CVD法生长的金刚石膜原料片被研磨至磨粒厚度尺寸公差范围内,有成核面及生长面。CVD多晶金刚石磨条是热丝CVD、直流喷射CVD、或者是微波CVD法生长的金刚石膜。CVD多晶金刚石磨条是条状和粒状、或者是方片状、三角状以及其他异形金刚石膜坯料。本实用新型的优点是可以解决CVD多晶金刚石磨粒磨条的质量检测,金刚石膜的成核面经过镜面抛光后,微小的缺陷和裂纹都将清晰可见,而且很容易区分成核面和生长面,这将有助于剔除不合格的磨粒磨条,提高修整工具的合格率。 | ||
搜索关键词: | 一种 成核 面镜面 抛光 cvd 多晶 金刚 石磨 | ||
【主权项】:
一种成核面镜面抛光的CVD多晶金刚石磨条,其特征在于热丝CVD、直流喷射CVD法或者微波CVD法生长的金刚石膜原料片被研磨至磨粒厚度尺寸公差范围内,有成核面及生长面。
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