[发明专利]一种基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法在审
| 申请号： | 201711366603.3 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108118298A | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 吴卫锋;刘勇;熊正茂;唐响 | 申请（专利权）人： | 池州市正彩电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/14 |
| 代理公司： | 合肥中博知信知识产权代理有限公司 34142 | 代理人： | 张加宽 |
| 地址： | 247000 安徽省池州*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射成膜技术，具体涉及一种基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，包括在待镀基材表面溅镀形成一层或多层金属膜层，然后在最外层的金属膜层表面加镀一层或多层反应膜层，或，先在待镀基材表面溅镀形成一层或多层反应膜层，然后在最外层的反应膜层表面加镀一层或多层金属膜层；所述的反应膜层由真空腔体内溅射的金属靶材与反应性气体反应并沉积而成；其中，金属膜层的厚度为5～35nm，可见光平均反射率为20～75％，所述反应性气体的通入量为30～80ml/min；本发明提供的颜色膜的成型方法，通过金属膜层与反应膜层的相互配合，实现了多种颜色膜的制备，镀膜工艺稳定、简单，无需过多的提高反应膜层的厚度即可获得较高亮度的镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 反应膜层 金属膜层 颜色膜 多层 磁控溅射 成型 反应性气体 最外层 镀基 溅镀 可见光平均反射率 金属膜层表面 成膜技术 镀膜工艺 金属靶材 真空腔 镀膜 溅射 沉积 制备 体内 配合 | ||
【主权项】：
一种基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：包括在待镀基材表面溅镀形成一层或多层金属膜层，然后在最外层的金属膜层表面加镀一层或多层反应膜层，或，先在待镀基材表面溅镀形成一层或多层反应膜层，然后在最外层的反应膜层表面加镀一层或多层金属膜层；所述的反应膜层由真空腔体内溅射的金属靶材与反应性气体反应并沉积而成；其中，金属膜层的厚度为5～35nm，可见光平均反射率为20～75％，所述反应性气体的通入量为30～80ml/min。
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