[发明专利]匹多莫德缩合杂质的去除工艺有效
| 申请号： | 201711341322.2 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108003221B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 张彤;孙滨;许蕾;周海洋;马庆双;王晓光 | 申请（专利权）人： | 北京金城泰尔制药有限公司 |
| 主分类号： | C07K5/078 | 分类号： | C07K5/078;C07K1/12;C07K1/02 |
| 代理公司： | 淄博启智达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 37280 | 代理人： | 王燕 |
| 地址： | 101399 北京市顺义*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及匹多莫德，具体涉及一种匹多莫德缩合杂质的去除工艺。本发明所述的匹多莫德缩合杂质的去除工艺，包括匹多莫德制备工艺中制得含有二环己基脲的二氯甲烷母液的步骤，其中，匹多莫德制备工艺以二环己基碳二亚胺为缩合剂，其是将含有二环己基脲的二氯甲烷母液经水解，分液得到水相，水相再经大孔树脂填料柱进行处理，处理完毕，成盐，精制得到匹多莫德。本发明通过将含有二环己基脲的二氯甲烷母液经水解，分液得到水相，水相再经大孔树脂填料柱进行处理，彻底去除匹多莫德产品中的杂质二环己基脲。本发明克服了现有工艺无法彻底去除杂质二环己基脲的缺陷，寻找到一种简单有效、安全环保、适合工业化的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 匹多莫德 缩合 杂质 去除 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种匹多莫德缩合杂质的去除工艺，包括匹多莫德制备工艺中制得含有二环己基脲的二氯甲烷母液的步骤，其中，匹多莫德制备工艺以二环己基碳二亚胺为缩合剂，其特征在于：将含有二环己基脲的二氯甲烷母液经水解、分液，得到水相，水相再经大孔树脂填料柱进行循环处理，处理完毕，成盐，精制得到匹多莫德。
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