[发明专利]一种碳纳米层包覆硅负极材料及其制备和应用有效
申请号: | 201711339205.2 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN109962214B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 王素力;戚甫来;孙公权 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | H01M4/36 | 分类号: | H01M4/36;H01M4/38;H01M4/583;H01M4/62;H01M10/0525 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 马驰 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及锂离子负极材料技术领域,具体涉及一种碳纳米层包覆硅负极材料及其制备方法,该制备方法包括如下步骤:A、制备碳前体;B、制备碳硅前体;C、制备碳纳米层包覆硅负极材料。制备的碳硅负极材料为多孔碳包覆纳米硅的纳米片结构,包覆的硅纳米粒子分布于碳层表面。包覆结构极大的降低了硅的体积膨胀;高孔隙率的多孔结构有效的缓解了硅膨胀对电极结构影响;并且碳纳米层提供了较好的导电网络。本发明包覆方法简便,原料来源广泛,价格低廉,工艺条件易控制,操作成本低,极具工业化前景。相比现行的包覆方法,具有包覆层均匀,包覆速率快等优点。本发明的碳纳米层包覆硅负极材料比容量高,循环性能和倍率性能优良。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 层包覆硅 负极 材料 及其 制备 应用 | ||
【主权项】:
1.一种碳硅复合负极材料,其特征在于:由硅纳米粒子嵌于碳纳米层中构成,所述硅纳米粒子的质量含量为20‑80%,硅纳米粒子的粒径为10‑100nm。
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