[发明专利]锗单晶片、其制法、晶棒的制法及单晶片的用途有效
申请号: | 201711296746.1 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108091708B | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 拉贾拉姆·谢蒂;王元立;周雯婉;刘卫国;朱颂义 | 申请(专利权)人: | 北京通美晶体技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/0288 | 分类号: | H01L31/0288;H01L31/18;C30B13/00;C30B29/08 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 刘文静;钟守期 |
地址: | 101113 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及增加多节太阳能电池开路电压锗(Ge)单晶片、锗单晶片的制备方法及制备锗单晶片的晶棒的制备方法。通过调整锗单晶片中共掺杂元素硅与镓的量、制备增加多节太阳能电池开路电压锗单晶棒时共掺杂元素硅与镓的比例以及锗单晶生长的速率和温度梯度,制得能够增加多级太阳能电池底电池开路电压的锗单晶片。 | ||
搜索关键词: | 晶片 制法 用途 | ||
【主权项】:
1.一种增加多节太阳能电池开路电压锗单晶片,其中,锗单晶片中包含掺杂剂元素硅和镓,硅的原子浓度为1×1014 atoms/cc至10×1018 atoms/cc,且镓的原子浓度为1×1016 atoms/cc至10×1019 atoms/cc,优选地,硅的原子浓度为2×1014 atoms/cc至8×1018 atoms/cc,且镓的原子浓度为2×1016 atoms/cc至9×1019 atoms/cc,更优选地,硅的原子浓度为3×1014 atoms/cc至7×1018 atoms/cc;且镓的原子浓度为2×1016 atoms/cc至8×1019 atoms/cc。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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