[发明专利]相移掩模坯料、相移掩模制造方法及显示装置制造方法有效

专利信息
申请号: 201711295074.2 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN108241251B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 坪井诚治;浅川敬司;中村伊都;安森顺一 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54;G03F1/32;G03F1/26;G03F1/56
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 朴渊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种相移掩模坯料,其具有优异的图案截面形状及优异的CD均匀性,且形成有微细图案,用于显示装置用相移掩模的形成。设置于透明基板上的相移膜具有:第一功能层及第二功能层、配置于两者间的中间层,第一功能层及第二功能层由含有铬、氧、氮的铬系材料构成,铬为30~70原子%,氧为20~60原子%,氮为0.4~30原子%,第一功能层所含的氮的含有率与第二功能层所含的氮的含有率相同或更多,第二功能层所含的氧的含有率比第一功能层所含的氧的含有率多,中间层含有铬和碳,铬的含有率为55~90原子%,碳的含有率为10~45原子%,中间层所含的铬的含有率比第一功能层及第二功能层所含的铬的含有率多。
搜索关键词: 相移 坯料 制造 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种相移掩模坯料,其在透明基板上具备由铬系材料构成的相移膜,其特征在于,所述相移膜具有:构成其下层的第一功能层、构成其上层的第二功能层、配置于所述第一功能层和所述第二功能层之间的中间层,所述第一功能层及所述第二功能层由含有铬、氧、氮的铬系材料构成,铬为30~70原子%,氧为20~60原子%,氮为0.4~30原子%,所述第一功能层所含的氮的含有率与所述第二功能层所含的氮的含有率相同或更多,所述第二功能层所含的氧的含有率比所述第一功能层所含的氧的含有率多,所述中间层含有铬和碳,铬的含有率为55~90原子%,碳的含有率为10~45原子%,所述中间层所含的铬的含有率比所述第一功能层、所述第二功能层所含的铬的含有率多。
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