[发明专利]一种提高宇航抗辐射存储器存储密度的方法及存储器有效

专利信息
申请号: 201711288758.X 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN108074619B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 罗玉祥;申景诗;赵永刚;邵飞;郭春辉 申请(专利权)人: 山东航天电子技术研究所;清华大学
主分类号: G11C19/02 分类号: G11C19/02;G11C19/14
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 仇蕾安;付雷杰
地址: 264003 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种提高宇航抗辐射存储器存储密度的方法及存储器,将存储单元与存储器CMOS的漏极连接,存储单元为三层结构,分别为铂电极层、氧化镍存储层及铂电极层;氧化镍存储层中的氧化镍呈多晶态;加载电场和/或磁场可以实现存储器的多态稳定存储,实现了存储态的扩展,显著提高宇航抗辐射存储器的存储密度。
搜索关键词: 一种 提高 宇航 辐射 存储器 存储 密度 方法
【主权项】:
1.一种提高宇航抗辐射存储器存储密度的方法,其特征在于,将存储单元与存储器CMOS的漏极连接,存储单元为三层结构,分别为铂电极层、氧化镍存储层及铂电极层;所述氧化镍存储层中的氧化镍呈多晶态;加载电场和/或磁场以改变存储单元的存储态,电场方向垂直于铂电极层,磁场方向平行于铂电极层。
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