[发明专利]一种司帕沙星分子印迹-量子点介孔材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201711280661.4 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN108318461B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 梁勇;谭杰安;耿园园;汤又文;杨军;张嘉霖;魏伟平 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学;广东炜鑫生物科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 林玉芳 |
| 地址： | 528437 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种司帕沙星分子印迹‑量子点介孔材料的制备方法包括以下步骤：首先，由模版分子司帕沙星、3‑氨丙基三乙氧基硅烷、丙酸硫基甲基乙酰氧基丙基三甲氧基硅烷，形成预作用复合物；然后，由表面活性剂、交联剂、所述预作用复合物和L‑半胱氨酸修饰Mn掺杂ZnS量子点，形成复合物；最后，将复合物中的模版分子司帕沙星和表面活性剂洗脱，得到司帕沙星分子印迹‑量子点介孔材料。本发明还提供一种由上述制备方法制备获得的司帕沙星分子印迹‑量子点介孔材料及其在检测样品中司帕沙星含量的应用，尤其在检测血清中司帕沙星含量的应用。本发明提供的制备方法步骤简单；所制备出的分子印迹‑量子点介孔材料能快速、灵敏和专一性的检测样品中的司帕沙星。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 司帕沙星 分子 印迹 量子 点介孔 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种司帕沙星分子印迹‑量子点介孔材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，由模版分子司帕沙星、3‑氨丙基三乙氧基硅烷和丙酸硫基甲基乙酰氧基丙基三甲氧基硅烷，形成预作用复合物；然后，由表面活性剂、交联剂、所述预作用复合物和L‑半胱氨酸修饰Mn掺杂ZnS量子点，形成复合物；最后，将复合物中的模版分子司帕沙星和表面活性剂洗脱，得到司帕沙星分子印迹‑量子点介孔材料。
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