[发明专利]共轴全反式光学成像系统有效
| 申请号： | 201711251006.6 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN109870792B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;熊玉朋;陈善勇;关朝亮;铁贵鹏;彭小强 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 陈晖 |
| 地址： | 410073 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种共轴全反式光学成像系统，前反射元件上开设有入射孔，前反射元件、后反射元件相对设置，前反射元件和后反射元件相对的两个面上分别加工出前反射面和后反射面，前反射面包括N个共轴环形反射面，且分别为第二反射面、第四反射面、……、第2N反射面(1n)，后反射面包括N个共轴环形反射面，且分别为第一反射面、第三反射面、……、第2N‑1反射面(2n)，共轴环形反射面为平面、二次曲面或非球面，光线通过入射孔进入前反射面和后反射面之间并依次通过第一反射面、第二反射面、第三反射面、第四反射面、……、第2N‑1反射面、第2N反射面反射后汇聚至成像面上，具有结构简单紧凑、便于调试、成像质量好且能实现大视场角等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 共轴全 反式 光学 成像 系统 | ||
【主权项】：
1.一种共轴全反式光学成像系统，其特征在于：包括前反射元件(1)、后反射元件(2)和成像面(3)，所述前反射元件(1)、后反射元件(2)相对设置，所述前反射元件(1)和后反射元件(2)相对的两个面上分别加工出前反射面和后反射面，所述前反射面包括N个共轴环形反射面，且分别为第二反射面(11)、第四反射面(12)、……、第2N反射面(1n)，所述后反射面包括N个共轴环形反射面，且分别为第一反射面(21)、第三反射面(22)、……、第2N‑1反射面(2n)，所述共轴环形反射面为平面、二次曲面或非球面，光线通过入射孔进入前反射面和后反射面之间并依次通过第一反射面、第二反射面、第三反射面、第四反射面、……、第2N‑1反射面、第2N反射面反射后汇聚至所述成像面(3)上。
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