[发明专利]一种抗冲击耐磨衬板的加工方法

摘要

本发明属于球磨机配件技术领域，具体涉及一种抗冲击耐磨衬板的加工方法，包括预成型衬板制备、热处理和镀层设置。本发明相比现有技术具有以下优点：本发明中通过对预成型衬板原料组分进行调节，结合热处理，使所得预成型衬板晶粒细化和碳化物分布均匀化，消除内应力，增强衬板硬度，然后再利用离子束辅助磁控溅射沉积薄膜，使所得薄膜具有较强的断裂韧度和硬度，使衬板在保持较高硬度的同时，抗冲击韧性大幅度提高，使其能够承受磨球的冲击，有效延长其使用期限。

主权项

1.一种抗冲击耐磨衬板的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）按组分配比准备原料，在保护气体氛围下，在电阻炉中熔炼后浇铸，得到预成型衬板；其中，所述原料按重量百分比包括：碳2.8-3.4%、铬1.5-2.8%、钙0.4-0.8%、锆0.25-0.45%、铯1.8-2.6%、铝0.28-0.72%、硅0.06-0.12%、镍0.83-1.22%、铜0.07-0.09%、硫0.016-0.028%、磷0.068-0.094%，余量为铁和不可避免的杂质；（2）对预成型衬板进行热处理，在箱式电阻炉内升温至470-520℃，保温6-8小时，炉冷到420-430℃后出炉水淬至室温；升温至560-580℃，保温2-4小时，炉冷到360-380℃后出炉水淬至室温；升温至750-780℃，保温4-6小时，炉冷到500-520℃后保温1-2小时；升温至950-1050℃，保温4-5小时后，油冷回火至520-580℃，保温2-3小时后，继续回火至280-320℃，保温1-2小时，出炉冷却即得；（3）镀层设置，采用沉积设备，在溅射源沉积铬的同时用高能氮离子轰击，然后以磁控溅射源沉积铬、离子溅射源沉积锰，并用一定能量的氮离子进行辅助轰击，得到厚度为30-40nm的复合膜；其中，磁控溅射靶功率为300W，溅射源轰击能量为2.8keV，所述溅射源离子束流密度为1.7mA/cm²；离子溅射源束流密度为1.8mA/cm²；辅助轰击能量为400eV，所述溅射源离子束流密度为0.12mA/cm²；所述锰粒子溅射源束流密度为2.2mA/cm²；所述锰原子分子数为6.8%，所述铬、氮原子比为7:2。