[发明专利]混相介孔二氧化钛、制备方法及采用其光催化去除含砷有机污染物的处理方法在审
| 申请号： | 201711202584.0 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN107963655A | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | 胡承志;董晶晶;曲久辉;刘会娟;安晓强;齐维晓 | 申请（专利权）人： | 中国科学院生态环境研究中心 |
| 主分类号： | C01G23/047 | 分类号： | C01G23/047;C01G23/053;B01J21/06;C02F1/30;C02F1/72;C02F101/30 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 100085*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种混相介孔二氧化钛、其制备方法及采用其光催化去除含砷有机污染物的处理方法。所述混相介孔二氧化钛为锐钛矿和金红石的混相晶型，具有粒径3～25nm的孔，并含有氧空位。所述方法包括1)将模板剂溶于溶剂中，加入盐酸和硫酸，搅拌；2)加入钛酸盐，搅拌，发生水解聚合反应；3)干燥后于保护性气氛下焙烧，得到混相介孔二氧化钛；盐酸、硫酸和钛酸盐的质量比为14046300。采用其可以在可见光条件下实现对低浓度DMA的高效光催化降解，DMA的去除率在95％以上，本发明还找到了混相介孔二氧化钛光催化降解DMA的最佳介孔二氧化钛投入量及pH值，并揭示了光催化去除水中DMA的两条催化降解路线。 | ||
| 搜索关键词： | 混相介孔二 氧化 制备 方法 采用 光催化 去除 有机 污染物 处理 | ||
【主权项】：
一种混相介孔二氧化钛，其特征在于，所述混相介孔二氧化钛为锐钛矿和金红石的混相晶型，具有粒径3nm～25nm的孔，并含有氧空位。
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