[发明专利]柔性基板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711132003.0 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107768530B 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 梁博 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 代理人: 孙伟峰;顾楠楠
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种柔性基板,包括二层柔性基底,在二层柔性基底之间设有至少一层由氧化硅和非晶硅构成的叠层材料。本发明还公开了一种柔性基板的制作方法,包括如下步骤:步骤一、制作一层第一柔性基底;步骤二、在第一柔性基底上制作至少一层由氧化硅和非晶硅构成的叠层材料;步骤三、对叠层材料进行一次去氢处理;步骤四、在叠层材料上再制作一层第二柔性基底,得到柔性基板。与现有技术相比,通过设置两层柔性基底以及在柔性基底之间设置叠层材料,能够提高多次弯折的稳定性;在制作完叠层材料后对叠层材料进行去氢处理,能够减少柔性基板在后端制程中缺陷的产生。
搜索关键词: 柔性 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种柔性基板的制作方法,其特征在于:包括如下步骤:/n步骤一、制作第一柔性基底(11);/n步骤二、在第一柔性基底(11)上制作至少一层由氧化硅和非晶硅构成的叠层材料(2);/n步骤三、对叠层材料(2)进行一次去氢处理;/n步骤四、在叠层材料(2)上再制作第二柔性基底(12),得到柔性基板。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711132003.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top