[发明专利]一种异质结电池的电极制备及热处理方法在审
| 申请号： | 201711129200.7 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN109786478A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 张杰;宋广华 | 申请（专利权）人： | 福建钧石能源有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/0224 | 分类号： | H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种异质结电池的电极制备及热处理方法，其所述方法包括：在硅片上沉积非晶硅薄膜；在非晶硅薄膜上沉积透明导电膜层；在透明导电膜表面沉积金属种子层；在种子层表面覆盖保护膜；然后在保护膜上形成金属栅线的图形；在金属栅线图形上进行电镀，增加金属栅线的厚度；刻蚀掉多余的保护膜及种子层，形成金属电极；对金属电极进行热处理以释放内应力，所述热处理为在空气氛围中对金属电极进行退火处理，其处理温度160‑180℃，时间为60‑100秒。本发明通过解决电镀铜线的应力问题，提升了电极与其界面的结合力，提高了太阳能电池的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 热处理 金属电极 金属栅线 保护膜 异质结电池 电极制备 种子层 电镀 沉积非晶硅薄膜 透明导电膜表面 透明导电膜层 非晶硅薄膜 种子层表面 太阳能电池 沉积金属 空气氛围 退火处理 应力问题 铜线 结合力 电极 硅片 刻蚀 沉积 释放 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种异质结电池的电极制备及热处理方法，其特征在于，所述方法包括：在硅片上沉积非晶硅薄膜；在非晶硅薄膜上沉积透明导电膜层；在透明导电膜表面沉积金属种子层；在种子层表面覆盖保护膜；然后在保护膜上形成金属栅线的图形；在金属栅线图形上进行电镀，增加金属栅线的厚度；刻蚀掉多余的保护膜及种子层，形成金属电极；对金属电极进行热处理以释放内应力，所述热处理为在空气氛围中对金属电极进行退火处理，其处理温度为160‑180℃，时间为60‑100秒。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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