[发明专利]压差密封结构及压差密封方法在审
申请号: | 201711098234.4 | 申请日: | 2017-11-09 |
公开(公告)号: | CN107725780A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 陈东平;肖辉;冯俊杰;刘铸 | 申请(专利权)人: | 昆明纳太科技有限公司 |
主分类号: | F16J15/18 | 分类号: | F16J15/18;F16J15/26;F16J15/10 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 林青中 |
地址: | 云南省昆明市高新区科发路13*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明公开了一种压差密封结构及使用该密封结构的密封方法。该压差密封结构包括密封底层、密封接触层以及粘接层。该压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法既能够用于静密封,又能够用于动密封,尤其适合两侧具有压力差的密封,如使用在具有负压的真空结构上,其中密封接触层可以直接贴合在待密封部位,由于密封接触层为弹性体,在密封接触层两侧有压力差存在的情况下,可紧紧地贴合在待密封部位,而密封底层的弹性模量较大,可给密封接触层提供一个很好的压力及其强度保障,防止密封接触层在两侧压力差的作用下被吸入待密封部位的缝隙中。因而上述压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法密封效果好,使用灵活方便。 | ||
搜索关键词: | 密封 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种压差密封结构,其特征在于,包括密封底层、密封接触层以及粘接层;所述密封接触层的两侧面分别为连接面以及用于与待密封部位贴合的接触面,所述连接面与所述密封底层的一侧表面之间通过所述粘接层连接;所述粘接层的周缘位于所述密封接触层的周缘之内,以使所述连接面位于所述密封接触层的周缘与所述粘接层的周缘之间的部分外露于所述密封底层和/或与所述密封底层之间形成间隙;所述密封接触层为弹性体,所述密封接触层的刚度较所述密封底层的刚度小。
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