[发明专利]一种用于零像散像差的双球面弯晶成像系统及其调节方法有效

专利信息
申请号: 201711063235.5 申请日: 2017-11-02
公开(公告)号: CN107807491B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 王瑞荣;安红海;舒桦;方智恒;贾果;谢志勇;王伟;熊俊;张帆;华能 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
主分类号: G03B42/02 分类号: G03B42/02
代理公司: 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 代理人: 周涛
地址: 201899 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,该系统包括固定底板、五维调节架Ⅰ、球面凹晶、五维调节架Ⅱ、球面凸晶、二维调节架Ⅰ、五维调节架Ⅲ、连杆、长方体玻璃块、底片室、底片盒、滤片框、滤片、底片、挡光板、五维调节架Ⅳ,球面凹晶固定设置在五维调节架Ⅰ上,球面凸晶固定设置在五维调节架Ⅱ上,长方体玻璃块固定设置在五维调节架Ⅲ上,连杆的一端固定在固定底板的下表面、另一端固定在五维调节架Ⅳ上,底片室固定设置在二维调节支架上,各五维调节架依次固定在固定底板上。本发明有效消除球面弯晶的像散像差对空间分辨力的影响,使球面弯晶具有高空间分辨能力应用于高温稠密等离子体、惯性约束聚变中小球内爆过程的诊断。
搜索关键词: 一种 用于 零像散像差 球面 成像 系统 及其 调节 方法
【主权项】:
1.一种用于零像散像差的双球面弯晶成像系统,其特征在于,该成像系统包括固定底板(2)、五维调节架Ⅰ(3)、球面凹晶(4)、五维调节架Ⅱ(5)、球面凸晶(6)、二维调节架Ⅰ(7)、五维调节架Ⅲ(9)、连杆(13)、长方体玻璃块(17)、底片室(23)、底片盒(24)、滤片框(25)、滤片(25‑1)、底片(25‑2)、挡光板(26)、五维调节架Ⅳ(27),所述球面凹晶(4)固定设置在五维调节架Ⅰ(3)上,球面凸晶(6)固定设置在五维调节架Ⅱ(5)上,长方体玻璃块(17)固定设置在五维调节架Ⅲ(9)上,连杆(13)的一端固定在固定底板(2)的下表面、另一端固定在五维调节架Ⅳ(27)上,底片室(23)固定设置在二维调节支架(7)上,所述五维调节架Ⅰ(3)、五维调节架Ⅱ(5)、五维调节架Ⅲ(9)依次固定在固定底板(2)上;所述底片盒(24)的中心点在光源(1)中心和长方体玻璃块(17)中心点连线的延长线上,所述底片盒(24)信号接收面的法线方向与球面凸晶(6)反射光线一致,所述底片(25‑2)位于底片盒(24)中,滤片(25‑1)粘贴在滤片框(25)上,然后粘贴好滤片的滤片框置于底片盒(24)中与底片(25‑2)叠合在一起组成记录系统,记录系统插入至底片室(23)中,且滤片(25‑1)与底片(25‑2)的中心点均在球面凸晶中心反射光线上。
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