[发明专利]用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板色阻图案的制备方法有效
| 申请号： | 201710980441.6 | 申请日： | 2017-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN107608179B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 牟广营 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G02F1/1335;G02B5/22 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板色阻图案的制备方法，该用于彩膜基板的色阻材料包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。本发明提供的用于彩膜基板的色阻材料及彩膜基板的色阻图案的制备方法，能够降低色阻图案在电场中的节点损失率，提高色阻材料的电学稳定性，不影响透光率，并且不改变现有工艺流程与参数，工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 彩膜基板 材料 彩膜基板色阻 图案 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于彩膜基板的色阻材料，包括：多官能团单体，所述多官能团单体包括二乙烯基苯单体。
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