[发明专利]一种陶瓷器皿釉烧工艺方法在审
申请号: | 201710954241.3 | 申请日: | 2017-10-13 |
公开(公告)号: | CN107903037A | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 许文瑜 | 申请(专利权)人: | 许文瑜;许新东 |
主分类号: | C04B33/34 | 分类号: | C04B33/34;C04B35/64;C04B41/86;C04B41/89 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362500 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种陶瓷器皿釉烧工艺方法,它包含如下步骤一、制备陶瓷器皿支撑座;陶瓷器皿支撑座包含圆柱形底座和圆柱形支撑台;圆柱形支撑台设在圆柱形底座的上方;二、在陶瓷器皿底部圆环凸台形成的凹槽部分涂蜡;三、对陶瓷器皿进行施釉;四、在陶瓷器皿支撑座的圆形支撑台部分或者陶瓷器皿上的空白部分涂上一层氧化铝;五、将陶瓷器皿正放在陶瓷器皿支撑座上进行烧制;六、烧制完成后,直接取下陶瓷器皿即可;陶瓷器皿釉烧时陶瓷器皿的底面放置在陶瓷器皿支撑座上,可有效地防止陶瓷器皿底沿上的釉水缺失或釉水堆积,并且陶瓷器皿与陶瓷器皿支撑座不会粘连,烧制方便,节约成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 器皿 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种陶瓷器皿釉烧工艺方法,其特征在于它包含如下步骤:一、制备陶瓷器皿支撑座;陶瓷器皿支撑座包含圆柱形底座和圆柱形支撑台;圆柱形支撑台设在圆柱形底座的上方;二、在陶瓷器皿底部圆环凸台形成的凹槽部分涂蜡;三、对陶瓷器皿进行施釉;四、在陶瓷器皿支撑座的圆形支撑台部分或者陶瓷器皿上的空白部分涂上一层氧化铝;五、将陶瓷器皿正放在陶瓷器皿支撑座上进行烧制;六、烧制完成后,直接取下陶瓷器皿即可。
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