[发明专利]一种用于电子束扫描CT的X射线源的阵列靶及制作方法有效
| 申请号： | 201710851400.7 | 申请日： | 2017-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN107887243B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 郑磊;刘华荣;王俊听;李艺晶;罗婷婷 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
| 主分类号： | H01J35/02 | 分类号： | H01J35/02;A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11487 | 代理人： | 郭鸿雁 |
| 地址： | 230001 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种用于电子束扫描CT的X射线源的阵列靶，包括线性阵列靶位、包埋层和靶基；所述线性阵列靶位包括至少一个单独的靶位，所述单独的靶位为线条状，深入所述包埋层0.5至10μm，所述靶位的两端延伸到所述包埋层的边缘，靶位的宽度小于或等于电子束直径，最佳为电子束束流密度的半峰宽尺寸，可近似为电子束直径的1/2至2/3；靶位之间的间隙等于或大于电子束直径；所述包埋层用于配置所述靶位；所述靶基配置于所述包埋层和靶位的底部；所述靶基的厚度为20至300μm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 电子束 扫描 ct 射线 阵列 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于电子束扫描CT的X射线源的阵列靶，其特征在于：包括线性阵列靶位、包埋层和靶基，所述靶基的材料为金刚石，所述包埋层的材料为铍、铝或石墨中的一种；所述线性阵列靶位包括至少一个单独的靶位，所述单独的靶位为线条状，深入所述包埋层0.5至10μm，所述靶位的两端延伸到所述包埋层的边缘，靶位的宽度为电子束直径的1/2至2/3；所述靶位的宽度为电子束束流密度的半峰宽尺寸；两相邻的靶位之间的间隙等于或大于电子束直径，有序间隔排列，线状阵列靶位之间填充包埋层；所述包埋层用于配置所述靶位；所述靶基配置于所述包埋层和靶位的底部；所述靶基的厚度为20至300μm。
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