[发明专利]还原催化剂以及使用了还原催化剂的化学反应装置、还原方法和还原物生产系统在审
| 申请号： | 201710810992.8 | 申请日： | 2017-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN108339570A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 田村淳;御子柴智;工藤由纪;小野昭彦;北川良太;山际正和;菅野义经 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B01J31/02 | 分类号： | B01J31/02;C25B1/00;C25B3/04;C25B11/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供还原催化剂以及使用了还原催化剂的化学反应装置、还原方法和还原物生产系统。本实施方式提供反应效率较高的还原催化剂和使用了该还原催化剂的还原反应装置。根据本实施方式的还原催化剂具有：导电体、和在所述导电体的表面由改性有机基团制成的有机层。其中，改性有机基团包含含有两个以上氮的芳香族环。也提供使用了该还原催化剂的还原反应装置。 | ||
| 搜索关键词： | 还原催化剂 化学反应装置 还原反应装置 生产系统 有机基团 导电体 还原物 改性 还原 反应效率 芳香族环 有机层 | ||
【主权项】：
1.一种还原催化剂，其特征在于，具有导电体和在所述导电体的表面的由改性有机基团制成的有机层，所述改性有机基团具有由下述通式(A)或(B)表示的结构：![]()
式中，Ra各自独立地为H或C1～C4烷基，Z为含有2个以上氮原子的芳香族环，Y为可与所述导电体结合的含有杂原子的基团，na为1～5的整数，nb为0～6的整数。
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