[发明专利]一种阵列基板色阻层的制备方法、阵列基板及显示面板有效
| 申请号： | 201710784294.5 | 申请日： | 2017-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN107589581B | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 孟小龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/20;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板色阻层的制备方法、阵列基板及显示面板。该阵列基板包括依次设置的第一钝化层、色阻层及第二钝化层，色阻层形成有第二通孔，该方法包括：在第一钝化层上涂布色阻材料；固化色阻材料，形成色阻薄膜；对色阻薄膜进行曝光显影，形成设有第二通孔的色阻层；对曝光及显影后的色阻层进行UV光照射，以使色阻层的第二通孔侧壁部分与色阻层的其它部分的交联程度相同。通过这种方式，能够提高色阻层的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 基板色阻层 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种阵列基板色阻层的制备方法，其特征在于，所述阵列基板包括依次设置的第一钝化层、色阻层及第二钝化层，其中，所述第一钝化层、所述色阻层及所述第二钝化层分别形成有第一通孔、第二通孔及第三通孔，所述制备方法包括：在所述第一钝化层上涂布色阻材料；固化所述色阻材料，形成色阻薄膜；对所述色阻薄膜进行曝光及显影，以形成设有所述第二通孔的色阻层，其中，所述色阻层的第二通孔侧壁部分的曝光强度小于所述色阻层其它部分的曝光强度；对曝光及显影后的所述色阻层进行UV光照射，以使所述色阻层的第二通孔侧壁部分与所述色阻层的其它部分的铰链程度相同。
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